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一、鍍膜的常見(jiàn)分類(lèi)

1.分類(lèi)

1.1.鍍膜技術(shù)是表面技術(shù)的一類(lèi).

1.2.常見(jiàn)的分類(lèi): a.濕式鍍膜法: b.干式鍍膜法。

1.2.1.濕式鍍膜法可分電鍍法、化學(xué)鍍法，

1.2.2.干式鍍膜法常稱真空鍍膜法、氣相沉積法?？煞譃?物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition\PVD),化學(xué)氣相沉積( Chemical Vapor Deposition\CVD).

PVD一般可分為:真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射( Sputtering)鍍膜、真空離子鍍膜。按照不同的分類(lèi)方法每一類(lèi)又可以分出多種，不再一一細(xì)說(shuō)， 重點(diǎn)說(shuō)明一 下真空蒸鍍里的電阻加熱蒸鍍、電子束加熱蒸鍍、離子束輔助蒸鍍和濺射里的磁控濺射鍍膜。

2.歷史

氣相沉積技術(shù)是近30年來(lái)迅速發(fā)展的一門(mén)新技術(shù)，應(yīng)用較早，但受真空技術(shù)和其它相關(guān)技術(shù)的限制，發(fā)展速度較慢。直到二戰(zhàn)時(shí)期， 法西斯德國(guó)將這技術(shù)服務(wù)于戰(zhàn)爭(zhēng)，制備各種軍用光學(xué)鏡片和反光鏡， 從而使這一技術(shù)在光學(xué)工業(yè)中得到迅速發(fā)展，并用漸形成了薄膜光學(xué)，成為光學(xué)的重要的分支。它不只是真空應(yīng)用技術(shù)，而是綜合了物理、化學(xué)一系列的新技術(shù)的結(jié)果。

3.定義1

在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)(或?yàn)R射)，使其沉積在被涂覆的物體(稱基片、基板或基體)上的方法稱為真空鍍膜法。真空蒸鍍簡(jiǎn)稱蒸鍍， 是在真空條件下，用一定的方法加熱鍛膜材料(簡(jiǎn)稱膜料)使之氣化，并沉積在工件表面形成固態(tài)薄膜。

以動(dòng)量傳遞的方法，用荷能粒子轟擊材料表面，使其表面原子獲得足夠的能量而飛逸出來(lái)的過(guò)程稱為濺射。磁控濺射是一種高濺射速率、低基片加熱的濺射技術(shù)，稱為高速低溫濺射技術(shù)。

離子鍍膜技術(shù)簡(jiǎn)稱離子鍍，離子鍍是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在基片上。

電阻加熱蒸鍍 是用絲狀或片狀的鎢、鉬、鉭高熔點(diǎn)金屬做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，將膜料放在其中，接通電源，電阻直接加熱膜料而使其蒸發(fā)，或者把膜料放入AI203、BeO等坩堝中進(jìn)行間接電阻加熱蒸發(fā)。

3.定義2

電子束加熱蒸鍍是將膜料放入水冷銅坩堝中，利用高能量密度的電子束加熱，使膜料熔觸氣化并凝結(jié)在基體表而成膜。

為了改善附著力，增加膜的致密性，鍍膜前，鍍膜過(guò)程中輔助離子束進(jìn)行轟擊的鍍膜方法稱為離子束輔助蒸鍍.

4.應(yīng)用

真空鍍膜技術(shù)屬于表面處理技術(shù)的一類(lèi)，應(yīng)用非常廣泛。

1.光學(xué)膜:用于CCD 、CMOS中的各種濾波片，高反鏡。

2.功能膜:用于制造電阻、電容，半導(dǎo)體薄膜，刀具鍍膜，車(chē)燈，車(chē)燈罩，激光，太陽(yáng)能等:

3.裝飾膜:手機(jī)/家電裝飾鍍膜，汽車(chē)標(biāo)牌，化妝品盒蓋，建筑裝飾玻璃、汽車(chē)玻璃，包裝袋。

5.現(xiàn)狀

由于真空鍍膜起步較晚，又受真空技術(shù)的阻制，前期發(fā)展較慢，屬于新的技術(shù)。目前，國(guó)外一些發(fā)達(dá)的國(guó)家應(yīng)用較為廣泛。國(guó)內(nèi)起步更晚，受技術(shù)的限制，應(yīng)用范圍較少潛力較大，待進(jìn)一步開(kāi)發(fā)。

二、鍍膜的設(shè)備

1.常用的鍍膜設(shè)備(外形)

1.1.電鍍法、化學(xué)鍍法一般是以槽體流水線形式進(jìn)行的，設(shè)備較為大型，昂貴。

1.2.箱式真空鍍膜機(jī)(立式)r中門(mén)、雙門(mén)。

1.3. 卷繞式真空鍍膜機(jī)(臥式)

1.40間歇式鍍膜機(jī)(立式) ;兩箱、三箱。

1.5.大型鍍膜流水線:根據(jù)客戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)。

這里沒(méi)有涉及CVD鍍膜設(shè)備

2.常用的真空鍍膜機(jī)(鍍膜方式)

2.1.電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)(立式雙門(mén)、立式鐘罩、臥式滾筒、臥式卷繞)。

2.2.電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)(箱式單門(mén)，精密度高)。

2.3.離子束輔助蒸發(fā)鍍膜機(jī)(箱式單門(mén)，電子束，精密度高，致密性好)

2.4.磁控濺射鍍膜機(jī)(立式單雙門(mén)，臥式) .

3.各國(guó)的真空鍍膜機(jī)的現(xiàn)狀

3.1.德國(guó)、美國(guó):歷史久，制造技術(shù)最強(qiáng)，穩(wěn)定性最好，價(jià)格最高(LEYBOLD、VECOO)。

3.2.日本:制造技術(shù)強(qiáng)，穩(wěn)定性好，價(jià)格偏高(新科隆，SHOWA、光馳)。

3.3.韓國(guó)、臺(tái)灣:制造技術(shù)較強(qiáng)，穩(wěn)定性一般， 價(jià)格略高(因泰卡、韓一、韓國(guó)真空、龍翩) 。

3.4.中國(guó):制造技術(shù)逐漸加強(qiáng)，制造廠家較多，穩(wěn)定性不好，價(jià)格便宜，鍍膜的領(lǐng)域正在擴(kuò)大，鍍膜家快速增加，主要應(yīng)用于飾品、工具、光學(xué)、汽車(chē)(南光、北儀、蘭州真密、上海曙光、沈陽(yáng)百樂(lè)、廣東三束、中環(huán))。

4.真空蒸鍍鍍膜機(jī)的相關(guān)參數(shù)和結(jié)構(gòu)1

4.1.真空蒸鍍鍍膜機(jī)的相關(guān)參數(shù)

4.1.1.真空室尺寸

4.1.2.最高加熱溫度

4.1.3.高，低真空泵抽速

4.1.4.膜厚控制精度

4.1.5.蒸發(fā)器的參數(shù)

4.1.6.離子源的參數(shù)

4 17.連續(xù)鍍層和時(shí)間

4.1.8.充氣系統(tǒng)的參數(shù)

4.1.9.深冷的參數(shù)

4.1.10.操作系統(tǒng)、軟件

另外:冷卻水、壓縮空氣，電量

4.真空蒸鍍鍍膜機(jī)的相關(guān)參數(shù)和結(jié)構(gòu)2

4.2.真空鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)(單箱式)主要的結(jié)構(gòu)是:槍、泵、規(guī)、室

4.2.1.真空室

4.2.2.工件架

4.2.3.加熱器

4.2.4.高、低真空泵

4.2.5.真空計(jì)(規(guī))

4.2.6. 膜厚控制儀

4.2.7.燕發(fā)源(磁控濺射:靶材:蒸鍍:膜料)

4.2.8.離子源

4.2.9.氣體流量計(jì)

4.2.10.深冷

4.2.11.防污板

4.2.12.操作系統(tǒng)(軟件）

4.2.13.各連接閥門(mén)

輔助：冰水機(jī)、過(guò)濾器、空壓機(jī)、 穩(wěn)壓電源

三、真空鍍膜的工藝

1工藝參數(shù)

1.1.真空度

1.2.溫度

1.3.蒸發(fā)速率

1.4.膜厚(光控、晶控)

1.5.充氣量

1.6. 工件架轉(zhuǎn)速

1.7.蒸發(fā)能量

1.8.冷卻水溫、水壓

1.9.料的純度、填料高度

1.10.離子源相關(guān)參數(shù)(時(shí)間，能量)

1.11.腔內(nèi)潔凈度

1.12.均勻性

1.13.重復(fù)性(穩(wěn)定性)

1.14.膜系層數(shù)、穩(wěn)定性

2.塑料件真空鍍膜工藝流程

烘烤——底漆——裝件——抽真空——預(yù)清洗——鍍膜——充氣——開(kāi)門(mén)下件

3.鍍膜制品的品質(zhì)因素

根據(jù)不同的產(chǎn)品不同的要求具體品質(zhì)要求也不樣，但基本的品質(zhì)要求如下:

3.1.外觀(色澤、麻點(diǎn)、臟污、刮痕)

3.2.附著力

3.3.性能測(cè)試(拉膜、水煮、摩擦、耐腐蝕)